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X射線光電子能譜儀(Escalab Xi+)試運(yùn)行公告

發(fā)布單位: 科研公共服務(wù)條件平臺(tái)

發(fā)布時(shí)間:2023-05-08

科研公共服務(wù)條件平臺(tái)X射線光電子能譜儀,已經(jīng)安裝調(diào)試完畢,即日起對(duì)校內(nèi)開放試運(yùn)行,歡迎校內(nèi)師生預(yù)約測(cè)試!

一、基本參數(shù)

型號(hào):ESCALAB Xi+

廠家:賽默飛世爾科技(Thermo Fisher Scientific)

單色Al Ka大面積XPS

能量分辨率(eV) 靈敏度(cps)

≤0.5 600000

≤0.6 1500000

≤1.0 3500000

最佳空間分辨率優(yōu)于20 um

成像XPS空間分辨率優(yōu)于3 um

雙陽極Mg Ka XPS

能量分辨率(eV) 靈敏度(cps)

≤0.8 650000

≤1.0 7000000

≤1.35 13000000

紫外光電子能譜(UPS)

費(fèi)米邊分辨率:100 meV 靈敏度:1000000 cps

二、應(yīng)用領(lǐng)域

XPS是一種應(yīng)用廣泛的表面分析方法,可對(duì)周期表中除H、He外的所有元素進(jìn)行定性、定量和價(jià)態(tài)分析;結(jié)合離子刻蝕可進(jìn)行片狀或薄膜材料的深度分析;UPS可分析導(dǎo)電樣品的價(jià)帶結(jié)構(gòu),進(jìn)行功函數(shù)的測(cè)量等。儀器由具備單色化XPS、平行成像XPS、離子散射譜ISS、反射電子能量損失譜REELS、紫外光電子譜UPS、ARXPS分析的主機(jī)和真空鍍膜腔室、光催化反應(yīng)室、惰性氣體傳輸及真空互聯(lián)系統(tǒng)等組成。電子能譜在納米材料、高分子材料、材料的腐蝕與防護(hù)、各類功能薄膜的機(jī)理研究、催化劑研究與失效等方面具有不可替代的作用,在化學(xué)、化工、物理、新材料、電子工業(yè)、能源、冶金、生物醫(yī)學(xué)和環(huán)境科學(xué)中應(yīng)用廣泛。

預(yù)約請(qǐng)登錄:http://facility.whu.edu.cn

地點(diǎn):武漢大學(xué)尖端科技樓105B

聯(lián)系人:吳老師15005601152